Customized services
CVD Solution
CVD 설계
가스 반응 및 이온 등을 이용하여 기판에 박막을 증착시키는 방법
1단계
가스를 증착 챔버로
유입 및 기판 표면에
흡착 및 확산
유입 및 기판 표면에
흡착 및 확산
2단계
열, 압력, 플라즈마 등을
통한 활성화 에너지 공급
통한 활성화 에너지 공급
3단계
활성화 에너지에 의한
가스 분해 후 박막 증착
가스 분해 후 박막 증착
씨에이티빔텍은 탄소나노튜브의 성장을 위한 화학기상증착법을 다년간 수행하여 독자적인 설계를 통한 고품질 탄소나노튜브 제조용 화학기상증착 장비를 설계 및 생산하고 있습니다.
수요처의 니즈에 따라 맞춤형 화학기상증착 시스템을 설계, 개발하여 장비의 제작 솔루션을 수요처에 제공하는 서비스를 수행하고 있습니다.
수요처의 니즈에 따라 맞춤형 화학기상증착 시스템을 설계, 개발하여 장비의 제작 솔루션을 수요처에 제공하는 서비스를 수행하고 있습니다.
Plasma enhanced CVD
CVD Process
Thermal CVD
주식회사 씨에이티빔텍
서울특별시 금천구 가산디지털1로 233 에이스하이엔드타워9차 1301호
TEL : +82-2-959-2016 ㅣ FAX : +82-2-6455-5930 ㅣ E-mail : info@catbeamtech.com
Copyright 2020 CBT. All Rights Reserved.
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